Kärnfunktioner och nyckelapplikationer

Inert skydd (antioxidation/fuktförebyggande): Kemiskt stabilt, kväve isolerar syre och fukt och förhindrar därigenom oxidation eller kontaminering av känsliga material som kiselskivor, metallkopplingar och fotoresister. Typiska scenarier inkluderar: waferlagring/transport, fotoresistbeläggning, CVD/ALD-tunnfilmsavsättning, snabb termisk glödgning (RTA) och trådbindning.

Processkontroll och bärgas: Den fungerar som en bärargas för att transportera prekursorer, vilket säkerställer att de levereras enhetligt till reaktionskammaren. Den fungerar också som en utspädning eller bakgrundsgas för att stabilisera plasma, reglera reaktionshastigheter och förbättra tunnfilmslikformighet samt etsningsprofilprecision. Typiska scenarier inkluderar: CVD/ALD, plasmaetsning och jonimplantationsbuffring.

Rensning och rening: Den rensar noggrant restsubstanser från utrustningskammare och rörledningar för att förhindra korskontaminering. Dessutom upprätthåller det positivt tryck i renrum och skapar skyddande luftridåbarriärer. Typiska scenarier inkluderar: kammarväxling i litografi/etsningsverktyg, gasledningsväxling och underhåll av övertryck i renrum.

Extra och specialiserade applikationer: Skyddar spån under högtemperaturprocesser; hämmar lödoxidation och förbättrar vätbarheten under SMT-återflöde och våglödning; minimera ytoxidation under laserbehandling; och tillhandahåller en inert lagringsmiljö för känsliga komponenter (som magnethuvuden och lysdioder) för att minska felfrekvensen.